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CVD管式爐時間：2024-08-27生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：6300CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
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1200℃滑動雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)時間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：8020PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
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1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)時間：2024-08-27生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：6660
CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
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1200℃預(yù)加熱滑動雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)時間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：21504PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
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1200℃滑動式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)時間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：5027產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。
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