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1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：8020PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
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1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：21504PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
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1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：5229PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G
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1200度小型PECVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：7124
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G
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